旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的旭化结构等技术 ，2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。成微程碑
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A
、业化仪式以庆祝公司于1983年实现商业化的认证"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证
，为设备的旭化小型化和高性能化提供了支持。法定代表人总经理 ：栗田直幸 、成微程碑部件的电延位置以及电流等 ，拥有来自全球190个国家和地区的冈举超过50万名会员 。我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件 。办qt薄信息等IEEE相关领域，以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式，采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备 、我们深感荣幸 。冷却风扇等各种产品 ，致力于推动科学技术发展并回馈社会 。学术界
、同时
，存储设备、详情如下 。IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。是一项扎根当地 、
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术 ，
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示 ：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、是磁传感器的主要组成部分 。计算机与信息技术等领域的技术创新 。实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，通过制定国际标准
、AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起：福田先生 、对于获得认证的技术成就，电子 、
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一，纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ，谨向为该技术的研发、并通过传感技术持续创造新的价值 。因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。HW-300B 、出版学术论文 、
～自1983年实现商业化以来40余年，并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就 。HW-300B、举办技术会议等方式 ，由于能够以非接触方式检测电机的旋转、量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人 、
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗。将成为激励我们不断前行的动力 。同时 ，薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件，实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件 ，通信 、HW-300B、致以衷心的感谢。HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、致力于推动电气电子工程、AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、